摘要
奈米壓印(NIL)技術具有高解析度、成本效益、提高良率和易於製造三維結構等多項優點。性使NIL在半導體、奈米技術、生物醫學、光學元件以及3D NAND 快閃記憶體等多個領域有廣泛應用。特別是在半導體產業，NIL的高精度和低成本特性，被視為推動先進製程技術發展未來重要技術之一。
內文標題/圖標題/表標題
一、前言
二、奈米壓印技術(NIL) 介紹
三、奈米壓印技術挑戰
四、奈米壓印技術機會
五、結論
圖1 採用NIL製程生產的的三維結構分光元件
圖2 Canon實現奈米壓印的半導體製造系統 FPA-1200NZ2C
表1 奈米壓印技術(NIL)的優勢和應用前景分析