半導體光罩產業發展趨勢
作者:江愛群
定價:免費
出版單位:工研院IEK
出版日期:2010/10/21
出版類型:產業評析
所屬領域:電子零組件及材料
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摘要
在半導體朝向製程微縮的趨勢發展下,高階先進製程的比重逐年增加,相對應的高階光罩需求也因而逐年提升,2009年90奈米以下製程使用之光罩已占所有光罩使用的比重約為50%,其中65/60奈米製程光罩約占21%、45/40奈米製程光罩約占17%。
高階光罩的生產成本較高,以65奈米的光罩生產線而言,一台光罩曝光設備(writer)價格約為4~5億新台幣,一條產線從前端到後端大概就需花費10~15億新台幣。而高階製程每往下一世代演進,其平均建置成本約以倍數增加,尤其在進入22奈米世代以後,不僅所需投入的設備較以往昂貴許多,相對應的光罩研發投資金額也十分驚人,以EUV為例,目前在實驗室進行技術開發所使用之空白光罩(Blank)一片就要價新台幣約100~200萬元,由於....