PVD、CVD 真空鍍膜設備專題研究

====章節目錄====

第一章　緒論

　　第一節　研究動機

　　第二節　研究範圍

　　第三節　研究方法及架構

　　第四節　研究時程及限制

第二章　鍍膜設備產品總論

　　第一節　真空鍍膜設備的應用與重要性

　　第二節　真空鍍膜設備的分類及特性

　　第三節　鍍膜設備製程簡介

第三章　全球鍍膜設備市場現況

　　第一節　全球PVD設備市場分析

　　第二節　全球CVD設備市場分析

　　第三節　全球半導體鍍膜設備之市場動向

　　第四節　全球主要鍍膜設備廠商概況

第四章 主要鍍膜設備應用產業現況與趨勢

　　第一節　光磁記錄鍍膜

　　第二節　平面顯示器

　　第三節　半導體

　　第四節　機械功能鍍膜

　　第五節　光學鍍膜

　　第六節　太陽能電池

　　第七節　薄膜真空蒸鍍

　　第八節　抗電磁干擾鍍膜

　　第九節　裝飾鍍膜

　　第十節　光通訊元件鍍膜

　　第十一節 其他先進鍍膜

第五章 台灣鍍膜設備產業現況

　　第一節　產業概述

　　第二節　主要廠商介紹

　　第三節　國內進口市場概況

　　第四節　我國鍍膜設備零組件概況

　　第五節　我國鍍膜設備及零組件代理商概況

　　第六節　我國鍍膜設備之研究現況

第六章 鍍膜設備產品發展現況與動向

　　第一節　零組件發展動向

　　第二節　鍍膜系統之挑戰與動向

　　第三節　鍍膜設備之研發現況

第七章 競爭分析

　　第一節　產業外在環境分析

　　第二節　產業內在特質分析

　　第三節　產業吸引力與前景

　　第四節　強勢弱勢機會威脅(SWOT)分析

第八章 結論與建議

　　第一節　結論

　　第二節　建議

第九章 參考資料

====圖目錄====

圖 1-1 真空鍍膜設備專題研究之研究動機

圖 1-2 真空鍍膜設備專題研究之研究範圍

圖 1-3 鍍膜設備專題研究之研究方法與架構

圖 1-4 PVD、CVD鍍膜設備專題研究時程

圖 2-1 真空鍍膜設備的主要應用

圖 2-2 真空鍍膜設備的分類

圖 2-3 PVD的三種基本製程

圖 2-4 電子束蒸著源的斷面

圖 2-5 主要離子鍍著技術的原理圖模型

圖 2-6　中空陰極蒸鍍法示意圖

圖 2-7 活性反應蒸鍍法基本架構示意圖

圖 2-8 熱離子弧光蒸鍍法示意圖

圖 2-9 陰極電弧蒸鍍法示意圖

圖 2-10 濺射裝置的基本構造

圖 2-11 直流濺射裝置(DC 2極輝光放電型)

圖 2-12 量產型之CVD設備

圖 2-13 熱CVD鍍膜成長概念圖

圖 3-1 PVD設備全球應用市場需求分析

圖 3-2 PVD在全球半導體應用上之市場趨勢分析

圖 3-3 PVD在全球金屬切削刀具應用上之市場趨勢分析

圖 3-4 全球CVD市場預測

圖 3-5 CVD設備製造商分布及市場佔有率分析

圖 3-6 CVD在全球半導體應用上之市場趨勢分析

圖 3-7 CVD在全球半導體應用上之市場趨勢分析

圖 3-8 1997年全球半導體設備市場規模與主要廠商

圖 3-9 全球常壓CVD設備市場分析

圖 3-10 全球減壓CVD設備市場統計

圖 3-11 全球電漿CVD設備市場

圖 3-12 全球金屬CVD設備市場銷售統計

圖 3-13 全球半導體濺鍍設備市場現況

圖 3-14 全球主要鍍膜設備製造廠商銷售金額統計

圖 3-15 應用材料公司財務資料

圖 3-16 應用材料公司產品銷售地區統計

圖 3-17 Novellus公司財務資料分析

圖 3-18 Lam research公司財務資料分析

圖 3-19 Balzers and Leybold 公司財務資料

圖 3-20 Steag Hamatech公司財務資料

圖 3-21 Singulus的銷售值

圖 4-3 全球光磁媒體之需求量及成長率統計

圖 4-4 平面顯示器之種類及其相關真空鍍膜設備、材料

圖 4-5 平面顯示器的用途

圖 4-6 全球LCD市場規模現況與預測

圖 4-7 半導體前段製程的流程圖

圖 4-8 全球半導體生產趨勢

圖 4-9 全球半導體設備投資趨勢

圖 4-10 設備投資金額佔半導體銷售總額比重之趨勢

圖 4-11 太陽能電池製程流程圖及真空鍍膜設備簡圖

圖 4-12 蒸鍍薄膜鍍層隔絕效果比較

圖 4-13 薄膜的基本鍍膜設備裝置模式圖

圖 4-14 LEYBOLD公司捲取式鍍膜設備圖

圖 4-15 阻隔電磁波(導電化)的方法及其應用

圖 4-16 光纖的生產原理及其使用之鍍膜設備示意圖

圖 5-1 和立聯合之公司概況

圖 5-2 東品真空之公司概況

圖 5-3 倍強真空之公司概況

圖 5-4 冠華科技之公司概況

圖 6-2 1995-1998年主要鍍膜設備大廠的研發經費花費趨勢

圖 7-1 我國PVD/CVD真空鍍膜設備產業外在環境分析

圖 7-2 PVD/CVD真空鍍膜設備產業外在環境分析

圖 7-3 全球PVD鍍膜設備市場規模及成長率分析

圖 7-4 全球CVD鍍膜設備市場規模及成長率分析

圖 8-1 全球PVD/CVD鍍膜設備市場結構及規模分析

圖 8-2 我國PVD/CVD鍍膜設備市場結構及規模分析

圖 8-3 我國鍍膜設備使用者的應用情形、面臨課題及鍍膜設備的挑戰

圖 8-4 我國真空鍍膜設備及其零組件的研發、創新改良方向分析

====表目錄====

表 2-1 各種離子鍍著法的比較

表 2-2 CVD的優缺點

表 3-1 全球PVD設備主要製造廠商佔有率分析

表 3-2 常壓CVD設備之市場佔有率

表 3-3 減壓CVD設備之市場佔有率

表 3-4 Plasma CVD設備之市場佔有率

表 3-5 金屬CVD設備之市場佔有率

表 3-6 濺鍍設備之市場佔有率

表 3-7 1997年全球主要鍍膜設備製造廠商概況

表 3-8 Novellus地理別銷售額分佈

表 4-1 全球光磁記錄媒體製品需要分析

表 4-1 全球光磁記錄媒體製品需要分析(續)

表 4-2 全球光碟鍍膜設備總裝置數量及未來成長率統計

表 4-3 全球液晶顯示器銷售量統計與預測

表 4-4 台灣投資TFT LCD生產廠商

表 4-5 影響LCD鍍膜成形週期時間的因素比較

表 4-6 全球LCD生產設備市場概況

表 4-6 全球LCD生產設備市場概況(續)

表 4-7 0.25ΜM製程之8吋晶圓廠資本投資設備

表 4-8 全球主要半導體製造設備的市場動向

表 4-8 全球主要半導體製造設備的市場動向(續)

表 4-9 鍍膜的機械性功能用途

表 4-10 1997-2002年北美PVD機械功能鍍市場

表 4-11 近年主要CVD技術研究單位之發展領域

表 4-24 近年主要CVD技術研究單位之發展領域(續)

表 4-12 近年主要PVD技術研究單位之發展領域

表 4-13 鍍膜的主要光學用途

表 4-14 SATIC鍍膜機的規格表

表 4-15 太陽能電池的分類及特性

表 4-16　鍍鋁及透明蒸鍍之外觀及性能比較

表 4-17 各類薄膜/薄板/紙板等材料真空蒸鍍的種類及用途

表 4-15 各類薄膜/薄板/紙板等材料真空蒸鍍的種類及用途(續)

表 4-18 捲取式蒸鍍機之分類

表 4-19 日本主要外殼抗電磁干擾鍍層生產企業

表 4-20 日本主要外殼抗電磁干擾鍍層生產企業之營業額及防EMI方式

表 4-21 EMI防護技術的比較

表 4-22 DEEP-COAT公司對不同材質的耐磨測試

表 4-23 HAUZER公司的裝飾用途物理蒸鍍的發展歷程

表 4-24 全球光通訊分項產品市場值統計

表 4-25 我國光通訊分項產值統計

表 5-1 我國主要鍍膜設備業基本資料

表 5-2 台灣鍍膜設備主要研究單位特色

表 5-3 近年美國鍍膜設備出口至台灣金額統計

表 5-4 1997年國內半導體用各類鍍膜設備前三大廠商排名

表 5-5 近年國內廠商及研發機構之研究領域及內容

表 5-5 近年國內廠商及研發機構之研究領域及內容(續)

表 5-6 近年國內學術機構PVD/CVD相關技術之研究領域及內容

表 6-1 我國公告之鍍膜設備專利之分析

表 6-2 PVD相關靶材的功能、材質及用途

表 6-3 鍍膜設備之研發資源投入

表 6-4 近年主要空鍍膜設備製造商PVD/CVD設備相關專利數量分析

表 6-5 近年主要空鍍膜設備製造商PVD/CVD設備相關專利內容分析

表 6-5 近年主要空鍍膜設備製造商PVD/CVD設備相關專利內容分析(續)

表 6-5 近年主要空鍍膜設備製造商PVD/CVD設備相關專利內容分析(續)

表 7-1 我國PVD/CVD真空鍍膜設備業及其上下游產業的SWOT分析

表 8-1 全球鍍膜設備業及其下游使用者之產品發展方向

表 8-2 我國真空鍍膜設備之進入策略評估與選擇