=====章節目錄=====
第一章 緒論
第一節 研究動機與目的
第二節 研究範圍
第三節 研究方法
第四節 研究限制
第二章 檢測設備市場概況
第一節 IC與FPD產業概況
第二節 IC與LCD檢測設備市場需求
第三章 檢測設備技術應用與演進趨勢
第一節 傳統檢查技術與應用
第二節 先進檢測技術
第三節 AOI在先進檢測技術中所扮演之角色
第四章 自動光學檢測設備發展現況
第一節 AOI市場概況
第二節 AOI產業概況
第三節 AOI設備關鍵技術分析
第五章 我國發展AOI檢測設備之潛力與機會
第一節 我國廠商現況
第二節 AOI研發計畫
第三節 我國發展AOI技術之競爭分析
第六章 結論與建議
第一節 結論
第二節 建議
附錄 參考文獻
=====圖目錄=====
圖1-1 研究範圍
圖1-2 研究架構圖
圖2-1 全球經濟成長率與半導體產值成長率
圖2-2 全球半導體資本支出與資本支出成長率
圖2-3 顯示器平面化推動產業持續成長
圖2-4 平面顯示器產品應用產品及技術發展趨勢
圖2-5 全球中小型面板市場規模趨勢
圖2-6 全球半導體整體設備市場規
圖2-7 2005年半導體各階段設備所佔市場比例
圖2-8 全球半導體檢測設備市場規模預測
圖2-9 全球半導體檢測設備地區別市場比例分佈圖
圖2-10 全球LCD製造設備市場規模預估
圖2-11 2005年LCD各階段設備所佔市場比例
圖2-12 全球LCD檢測設備市場規模預測
圖2-13 全球LCD檢測設備地區別市場比例分佈圖
圖3-1 SMT製程與AOI設備應用
圖3-2 IC製造流程與技術關聯圖
圖3-3 2003~2019年微影技術解決方案一覽
圖3-4 點型視野光譜影像量測裝置
圖3-5 影像式(A)與非影像式(B)的光譜影像量測裝置
圖3-6 光譜照相機裝置
圖3-7 同時量測12個藍光LED的光譜影像
圖3-8 區域型光譜影像量測裝置
圖3-9 常見白光光源光程差與強度關係
圖3-10 垂直掃描干涉顯微鏡之架構圖
圖3-11 共焦顯微鏡之掃描原理
圖3-12 S-偏振光(Es)垂直行進平面(紙面)，P-偏振光(Es)平行行進平面
圖3-13 橢圓偏振儀器架構示意圖
圖3-14 利用線性偏振光檢測物體表面缺陷之示意圖
圖3-15 螢光原理示意圖
圖3-16 Toray Engineering公司白光干涉儀量測例
圖3-17 Nanosurf公司共焦顯微鏡量測例
圖3-18 Olympus公司共焦顯微鏡量測例FPD之鋁導線
圖3-19 (A)影像式橢偏儀之架構圖 (B)傳統光學影像與橢偏光學影像比較
圖3-20 光譜式橢圓偏光儀架構示意圖
圖3-21 (A)入射光從表面或內層散射光線 (B)SP1DLS不同偏振光所造成的訊號圖
圖3-22 BT材料螢光光譜
圖3-23 (A)螢光斜射光學系統架構圖 (B)螢光同軸入射光學系統架構圖
圖3-24 (A)PCB螢光影像(B)PCB白光反射影像
圖3-25 盲孔螢光示意圖
圖3-26 盲孔螢光影像
圖4-1 全球IC與FPD之AOI設備市場規模預測
圖4-2 我國IC與FPD之AOI設備市場規模預測
圖4-3 1997~2005年我國印刷電路板設備市場規模
圖4-4 1997~2005年我國印刷電路板設備類別投資額
圖4-5 全球電子組裝設備市場規模
圖4-6 全球SMT檢測設備市場規模
圖4-7 其他市場之應用範例-保特瓶口尺寸檢測
圖4-8 其他市場之應用範例-為人體電腦斷層掃瞄之影像
圖4-9 其他市場之應用範例- 台中地區地形高度干涉影像
圖4-10 (A)目前半導體製造廠普遍使用之bar-in-bar overlay target (B)新式的等距式量測圖像(periodic target)
圖4-11 光譜影像扭曲
圖5-1 AOIEA組織樹狀圖
圖6-1 國內外AOI廠商核心價值差異分析結構圖
圖6-2 AOI設備技術魚骨圖
=====表目錄=====
表2-1 全球半導體市場規模
表2-2 全球半導體區域市場規模
表2-3 2004年全球前十大半導體製程設備製造商營收情形
表3-1 各式光譜影像量測裝置特性比較
表4-1 1997~2004年我國印刷電路板主要檢測設備市場規模
表4-2 歷年我國印刷電路板檢測設備供應分析
表4-3 AOI設備應用範圍
表5-1 國內廠商發展AOI設備匯總表
表5-2 工研院所發展之AOI相關計畫
表5-3 金屬中心所發展之AOI相關計畫
表5-4 學界所發展之AOI相關計畫
表5-5 促進產業升級條例摘要(民國94年02月02日修正)
表5-6 自動光學檢測設備產業SWOT分析
表6-1 國內外AO廠商核心價值差異分析