微影製程技術在IC製造中一直扮演著舉足輕重的角色，隨著IC產品技術需求的提升，微影技術也需不斷地提高解析度以製作更微小的特徵尺寸。為符合未來65奈米以下世代的需求，微影設備供應商也極力開發新的光學及非光學微影技術。但因2003年5月英特爾(Intel)宣佈不導入157奈米微影設備於65奈米製程，將繼續使用193奈米微影技術進行65奈米及45奈米製程，並計劃導入極短紫外光(EUV)微影設備，用於32...
若有任何問題，可使用下方檢索互動介面找解答，或是寫信到客服信箱。
星期一~五 9:00-12:30/13:30-18:00