DNP在早期就著手發展小型化半導體線路與設備的奈米壓印技術，因此能夠研發製作出以奈米等級為基礎的半導體線路圖案模板。該公司半導體製程建立20奈米等級的奈米壓印黃光技術(NIL)生產系統，由於NIL技術的製程設備架構較簡單、排除複雜的光學生產設備、可望大幅減少成本，因此受到各界矚目並寄望成為次世代黃光技術。
一、前言
二、DNP的奈米壓印技術發展背景
三、DNP的奈米壓印模板的特點與未來發展目標
四、IEKView
圖一、光罩廠商市佔率分析
圖二、奈米壓印黃光製程技術示意圖
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