在半導體朝向製程微縮的趨勢發展下，高階先進製程的比重逐年增加，相對應的高階光罩需求也因而逐年提升，2009年90奈米以下製程使用之光罩已占所有光罩使用的比重約為50%，其中65/60奈米製程光罩約占21%、45/40奈米製程光罩約占17%。
高階光罩的生產成本較高，以65奈米的光罩生產線而言，一台光罩曝光設備(writer)價格約為4~5億新台幣，一條產線從前端到後端大概就需花費10~15億新台幣。而高階製程每往下一世代演進，其平均建置成本約以倍數增加，尤其在進入22奈米世代以後，不僅所需投入的設備較以往昂貴許多，相對應的光罩研發投資金額也十分驚人，以EUV為例，目前在實驗室進行技術開發所使用之空白光罩(Blank)一片就要價新台幣約100~200萬元，由於....
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