當前針對高性能晶片的要求，希望不斷提升效率，並且降低功耗，擴大儲存空間的情況下，透過延續摩爾定律，將先進製程不斷的向下發展已成為不可逆的發展方向。隨著先進製程往7奈米以下製程發展，因製程的銅材料導線會因為導電速率的不足，無法滿足7奈米製程的需求，使得先進製程發展上碰上阻礙。因此，應用材料(AMAT)開始研發以鈷來取代銅，成為未來先進製程中導線材料的可能。
一、半導體製程變革
二、AMAT先進製程設備發展現況
三、結論
圖1 AMAT整合鈷材料應用於系統平台
若有任何問題，可使用下方檢索互動介面找解答，或是寫信到客服信箱。
星期一~五 9:00-12:30/13:30-18:00