在TFT-LCD蝕刻製程中，分成濕式和乾式兩種方式。乾式設備價格雖然比濕式設備高，但考量未來 LCD 將朝線寬微細化和提高開口率發展，導線材料處理方式也需有所調整，且在設備佔地面積和藥液處理成本方面，乾式蝕刻較濕式蝕刻有利，因此在製程上大部份都是朝向乾式製程發展。且由於光罩數量可縮減，因此在半色調網點(Halftone)灰階曝光製程中，採用乾式蝕刻設備製程也逐漸增加。另外，在低溫多晶矽TFT-LC...
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